Obţinerea Unor Structuri Multistrat prin Depunere din Plasmă - Caracterizare Structurală prin Microscopie Electronică

I. PLASMĂ ŞI REACŢII ÎN PLASMĂ
I.1. Plasma
I.1.1. Descărcări cuplate inductive
I.1.2. Circuitul echivalent al plasmei
I.1.3. Obţinerea plasmei de gaz metan
I.2. Reacţii în plasma de gaz metan – CH4
II. METODE PENTRU STUDIUL STRUCTURII CRSITALINE
II.1. Consideraţii generale. Aproximaţia adiabatică
II.2. Metoda Hartree-Fock
II.2.1. Metoda Bloch. Fucţii de undă Bloch
II.2.2. Aproximarea electronilor slab legaţi
II.2.3. Aproximarea electronilor puternic legaţi
III. OBTINEREA CARBURII SI DICARBURII DE SILICIU
III.1. Siliciul
III.2. Metode de obţinere a carburii şi dicarburii de siliciu
IV. CARACTERIZAREA PRIN MICROSCOPIE ELECTRONICĂ
IV.1. Rezoluţie
IV.2. Caracteristici de funcţionare ale miscroscopului electronic
IV.3. Formarea imaginii în modul TEM
BIBLIOGRAFIE

Niciun comentariu:

Trimiteți un comentariu